更新日： 集計期間:2025年10月01日～2025年10月28日
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温度条件による相変化・化学反応・格子定数の変化を知るために有効な手段！
当社で行う「高温XRDによる極薄膜の結晶性評価」についてご紹介いたします。 高温でのX線回折(XRD)は、各種材料の温度条件による相変化・化学反応・ 格子定数の変化を知るために有効な手段です。 添付のPDF資料にて、nmオーダの極薄膜の結晶構造の変化をIn-PlaneXRD＋ 高温測定で評価した事例をご紹介しておりますので、ぜひご覧ください。 【高温＋In-Plane XRD 特長】 ■極低角でX線を入射して面内方向に検出器を走査させる方法 ■入射X線は表面から深くまで入らず、かつ表面に対して 垂直な回折面のみを検出することができる ■数nmの極薄膜についても結晶の情報を得ることができる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
同一箇所における抵抗分布と結晶粒・結晶粒界評価
SSRMでは局所抵抗に関する知見を、EBSDでは結晶粒・粒界に関する知見を得ることができます。 EBSD測定と同一箇所でSSRM 測定を行うことで、結晶粒界部を含んだ領域の局所抵抗を測定しましたので紹介いたします。
成膜条件の違いによる膜の微細構造の変化を捉えることが可能です
酸化アルミニウムは優れた耐摩耗性、耐熱性などの性質から各種産業用機械・製造装置用部品などに用いられています。 また、化学的安定性や高い絶縁性も有していることから、その薄膜は触媒の担体や磁気トンネル接合の絶縁層などにも用いられています。成膜条件によってアモルファス構造や様々な結晶構造をとり得る酸化アルミニウム膜の微細構造の評価はXAFSが有効です。 本資料ではアモルファス酸化アルミニウム薄膜について配位構造（AlO4、AlO6）の定量的な分離を行った事例をご紹介します。
FIB：集束イオンビーム加工
FIBを用いたTEM観察用薄膜試料作製法では、高エネルギーのGaイオン（加速電圧30kV)を用いており、加工面にダメージ層が生じ、TEMの像質低下の原因となっています。そこで従来より低加速(2kV)の加工を行うことでダメージ層が低減でき、像質が改善されました。 FIB低加速加工によりFIB加工面のダメージを低減することで、TEM像観察、EELS測定において高品質で信頼性の高いデータが得られます。
組成・結合状態・構造・密度の評価が可能
CIGS薄膜太陽電池の高効率化において、光吸収層から透明電極までのバンド構造や結晶性の制御のために様々なバッファ層材料が検討されております。 平坦化された基板上に成膜したZn系バッファ層についてX線による各種評価を行った事例を示します。 成膜条件による水準間、成膜後の各種プロセスの水準間での比較が可能です。
ナノ～オングストローム分解能！原子レベルで微細形態観察・組成分析
TEM/STEMは電子ビームを使用してサンプルを画像化する分析手法です。 TEM/STEMの空間分解能は約1〜2Åです。 高エネルギー電子（80〜200 keV）は、電子透過性サンプル（〜100 nmの厚さ）を透過します。TEM/STEMの空間分解能はSEMより優れていますが、多くの場合複雑なサンプル調製が必要です。また、近年ではSTEMに球面収差補正レンズを搭載したAC-STEM（CS補正機能付きSTEM）により従来のSTEMよりも高分解能での分析が可能になりました。 EAG LaboratoriesではTEM/STEMを20台以上所有し、試料作製用のFIB-SEMを30台以上所有しています。また、元素分析を行うEDS/EELSも複数台所有しています。分析に充分な設備数を所有しているため、TEM/STEM分析は常に短納期でご対応することが可能になっています（標準納期：6～8営業日/特急納期：お問合せ）。
FIBは、数nm～数百nm径に集束したイオンビームのことで試料表面を走査させることにより特定領域を削ったり成膜することが可能です
FIBは、数nm～数百nm径に集束したイオンビームのことで、試料表面を走査させることにより、特定領域を削ったり（スパッタ）、特定領域に炭素（C）・タングステン（W）・プラチナ（Pt）等を成膜することが可能です。また、イオンビームを試料に照射して発生した二次電子を検出するSIM像により、試料の加工形状を認識できます。 ・微小領域（数nm～数十μm）のエッチングによる任意形状加工が可能 （通常加工サイズ：～20μm程度） ・SEM・SEM-STEM・TEM像観察用試料作製（特定箇所の断面出しが可能） ・微細パターン（数μm～数十μm）のデポジション薄膜形成が可能（C・W・Ptの成膜） ・高分解能（加速電圧30kV：4nm）でのSIM（Scanning Ion Microscope）像観察が可能 ・SIM像で金属結晶粒（Al、 Cu等）の観察が可能
大正７年創業の歴史ある化学工業製品商社でありながら、光学薄膜・パターンなどの最先端の加工を自社工場で行っている技術企業です。
安達新産業株式会社は、主に化学工業製品や合成樹脂材料等の製造・販売、光学薄膜や機能膜等の製造・加工を行っている会社です。 また、フォトリソグラフィ・エッチング技術を応用したパターン加工等の最先端技術の加工や、研究・開発も行っております。 【事業内容】 （表面処理事業） ・光学薄膜、真空蒸着、スパッタリング ・パターン加工(電気化学分析チップ、くし形電極等) （商社事業） ・化学工業製品販売 (各種合成樹脂・接着剤・シリコーン・ホットメルト等) ・樹脂成形品加工、金型加工 ・ナノマテリアル・ナノ粒子販売 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
デッドボリュームの少ない成膜が可能！ スピンコーターの代替に好適！【無料吐出可否テスト実施中】
「InkjetLabo」は、シンプル＆多機能なインクジェット式吐出装置です。 この装置により、成膜プロセスで発生する以下の各種問題点が解決出来ます。 １．デッドボリュームを減らしたい！ ２．コーヒーリング現象を回避したい！ ３．塗布基材の形状が平面でなかったり、立体構造への塗布がしたい！ ４．基板エッジに液だまり発生させたくない！ ５．吐出する溶液に熱を加えたくない！ また、全面塗布する必要が無い場合は、パターニングにより任意の箇所のみ塗布が可能で、その際のマスク（版）は不要です。 更に、非接触塗布のため、薄膜フィルムにストレスを加えずに塗布することが可能です。 １滴がpリットルと微量なため、乾燥が早く、乾燥工程を省略することも出来ます。 これにより、加熱せずに基材の結晶膜を生成することが可能です。 ※詳細はカタログのダウンロードお願いします。 webミーティングも随時受付中、お気軽にお問い合わせください。
真空下での走査型広がり抵抗顕微鏡（SSRM）による局所抵抗分布評価
CIGS薄膜太陽電池のZnO/CdS/CIGSの多結晶へテロ接合界面をSSRM法で分析し、局所的な抵抗分布を計測しました。真空環境下で測定することで、測定表面の吸着水を除去し、高空間分解能を得ることができます。測定結果から、ナノメートルレベルの空間分解能で各層の抵抗値を計測できていることが分かります。各層の抵抗値が数桁異なり、これがキャリア濃度の違いを示しています。CIGS層はi-ZnO層よりも高抵抗であること、CdSはこれらの層よりもさらに高抵抗であることが分かりました。
材料分析・異物分析に適した微量元素・軽元素の分析を実施します。
EPMA、FE-EPMA、XRFの分析方法である波長分散型X線分析法（WDX）を用いて、微量元素・軽元素の受託分析サービスを実施致します。 WDX装置はエネルギー分散型X線分析装置（EDX）よりも波長分解能が優れており、微量元素や軽元素の検出感度が高い分析が可能です。 そのため金属材料の判別や微量元素の拡散状態の分析、異物の分析等の微量元素分析にご利用いただけます。
マイクロ流路を必要としない微量溶液の混合により、低温での結晶化が可能！
「InkjetLabo」は、シンプル＆多機能なインクジェット式吐出装置です。 この装置により、マイクロ流路（μTAS）を必要とせず、２液以上の液体を混合することが可能です。 当社のインクジェットヘッドは、pℓオーダーの微小液滴を正確に配置することが出来ます。 例えば、微量な２液を混合する場合、当社のヘッドを２台利用し、 同じ場所を狙って微小液滴を吐出させることにより、溶液混合することが可能です。 また、液量が微量なため乾燥しながら混合し、基材を加熱することなく 自然乾燥で粒子の結晶化や析出化が可能となります。 そのため、熱に弱い基材への結晶膜の生成も可能です。 自動ステージを標準装備することで、溶液を使ったライン形成、薄膜形成、 ドット配置が可能で、付属の専用ソフトにより、難しいプログラミングが必要ありません。 また複雑なパターニングもBMPファイルにより対応可能です。 ※詳細はPDFをダウンロード頂くか、お問合せ下さい。
